没有多少人知道，由院长邓光辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过近3年的潜心研究，在1999年7月就掌握了浸没式光刻系统技术，研发成功全球第一台65nm制程工艺的浸没式光刻机试验机，避免刺激美国，秘而不宣，到去年6月17日才公开。
从1999年8月开始立项，bSEc投资1亿元，邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发EUV的同时，在65nm制程工艺浸没式光刻机的基础上，经过近六年的潜心研究，研发成功45nm制程工艺浸没式光刻机就不足为奇了。
光源研究所所长钱富强研究员凭借在全球顶尖光刻机期刊上发表的30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的65nm制程工艺浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值等重大贡献，于去年11月，被遴选为工程院院士。
bSEc光刻机研究院如今由邓国辉、欧阳明、陈伟长、夏季常和钱富强等五位院士领衔，技术实力国内第一，在全球光刻机研究机构中也是名列前茅。
bSEc光刻机研究院包括光刻机光源研究所（所长钱富强院士）、硅片制造研究所（副院长兼所长欧阳明院士）、光刻机光学研究所（副院长兼所长陈伟长院士）、光刻机自动化研究所（所长夏季常院士）、光刻胶研究所（所长刘明堂研究员）、刻蚀机研究所（所长陈运复研究员）、光刻机热处理研究所（所长杨鸿涛教授）、掩膜版研究所（所长郭兴程研究员）、离子注入机研究所（所长景清云教授）和光刻机半导体信息部（部长李广均研究员）等九所一部。
近13年来，bSEc光刻机研究院从国内外招聘了2147名教授（副教授）、研究员（副研究员）、高工、博士和硕士，构建完成了从光刻机光源、光刻机光学系统、光刻机自动化、硅片制造、光刻胶、掩膜版、热处理、刻蚀机、离子注入机和光刻机半导体信息部等完整的光刻机半导体技术体系和人才梯队，制定了行之有效的人才培养制度，拥有相关技术专利7231项，其中核心技术专利79项。
招聘国内外相关专业博士毕业生常年不断。
如今bSEc每年申请公司发明专利近千项，相关科技成果如雨后春笋，层出不穷。
bSEc在国内不是孤军奋战，同中K院、华清、燕大、哈工大、西工大、国科大、华中大、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂和金城金属气体厂等60多家科研院所和公司建立了技术和产品合作机制，联合开发最新一代的单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术项目，签订长期供货合同，互利共赢。
不久的将来从这些合作公司中诞生几家高科技上市公司只是时间问题。
如今，bSEc掌握了浸没式光刻机的核心技术，研发成功32nm、28nm、22nm、14nm、10nm制程工艺的浸没式光刻机只是时间问题，已经不担心被人卡脖子。
生产7nm、5nm制程工艺高端芯片的EUV光刻机是十几年后的事情。
虽然GcA拥有的EUV激光器不可能给bSEc使用，但邓国辉和钱富强领衔的EUV团队已经研究EUV激光器6年，虽然还没有研发成功，但孙健一点都不担心，10年不行，15年！
研发EUV激光器的过程也是技术不断积累、人才不断成长的过程。
bSEc不差钱！
1996年6月24日在鹏交所上市的bSEc，经过多次送配，2005年中期年报显示，总股本64.22亿股，非流通股54.08亿股，流通股10.14亿股，总资产679.45亿元，净资产407.79亿元，每股净资产6.35元，中期营业收入447.62亿元，同比增加233.25%，净利润161.14亿元，同比增加235.87%，每股收益2.51元。
pGcA和曙光东芝晶圆去年预定的3条65nm半导体生产线已于上半年交付；台联电、Intel和Amd去年预定的3条65nm半导体生产线于下半年交付，今年的主营收入和净利润将创历史记录，每股收益预计将超过5元。
在鹏沪两市大盘不断创新低的大环境下，业绩大增的bSEc稳步上升，昨日收盘87.64元，如今是鹏沪两市第一高价股；作为鹏沪两市第一高科技股，但市盈率只有17.53倍，超过百元只是时间问题。
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“tIc以避免同业竞争为由，在市场上公开减持了10.5%的ASmL股份，将持有的股份降低到4.5%，林工，孙健大幅减持后，会不会不给ASmL授权？”
同以往pGcA的新半导体生产线量产不同，18日，全球第一条65nm半导体生产线量产唯恐天下不知，邀请Intel、Amd、NVIdIA、AtI、3dfx等全球芯片大佬参加量产仪式，愿意为全球芯片研发公司代工生产芯片，一视同仁，轰动全球。
忧心忡忡的张仲谋找来林本坚商议。
到今年9月，大陆将出现三条65nm制程工艺的半导体生产线，率先抢占国内外高端芯片的市场份额；到年底，台联电的一条65nm制程工艺的半导体生产线量产，抢占台湾地区高端芯片的市场份额；到明年一月，Intel和Amd的二条65nm制程工艺的半导体生产线量产，抢占美国高端芯片的市场份额。
全球高端芯片的市场份额被瓜分，到时，台积电连喝汤的机会都没有了，张仲谋不着急是假的。
台积电去年7月就向ASmL预定了20台ASmL浸没式光刻机，原计划今年三月量产，8月到货，明年3月就能量产，只比其他采用65nm制程工艺的bSEc浸没式光刻机半导体生产线晚半年左右，但计划赶不上变化，由于ASmL侵犯了bSEc的公司发明专利，被bSEc提起申诉，国际专利局终止了ASmL浸没式光刻机的专利申请，不能量产浸没式光刻机！只能等bSEc明年1月拿到技术专利，授权给ASmL使用，明年5月才能拿到20台ASmL浸没式光刻机，安装调试和试生产后，明年底才能量产。
“董事长不必担心，华人首富为人大方，不会不给ASmL授权的。”
林本坚也不知道孙健大幅减持ASmL股要的缘由，只能安慰张仲谋。
(本章完)